Китай делает важный шаг на пути к новым достижениям в области искусственного интеллекта и передовых технологий. Об этом сообщает Zamin.uz.
По сообщениям международных источников, в секретной лаборатории, расположенной в городе Шэньчжэнь, создано экспериментальное оборудование для производства передовых чипов, необходимых для искусственного интеллекта и современных электронных устройств. Это оборудование основано на технологии экстремальной ультрафиолетовой литографии, которая до сих пор контролировалась западными странами.
Данная технология находится на стадии испытаний, и полностью функционирующие чипы пока не произведены. Однако устройство успешно генерирует необходимое ультрафиолетовое излучение.
Правительство Китая поставило цель начать производство первых чипов на основе этой технологии к 2028 году. Однако специалисты отмечают, что этот процесс может затянуться до 2030 года.
Проект реализуется в рамках стратегической программы развития Китая. В нем активно участвуют государственные научные центры и крупные технологические компании.
Основная цель — избавиться от зависимости от зарубежных технологий в производстве передовых чипов и перейти на полностью локальные возможности. Эксперты оценивают эту инициативу как важный поворотный момент на пути Китая к технологической независимости.
Этот процесс в будущем может оказать значительное влияние на мировой рынок полупроводников и сформировать новый баланс в технологической конкуренции.
