Xitoy sun’iy intellekt va ilg‘or texnologiyalar sohasida yangi yutuqlarga erishish yo‘lida muhim qadam tashlamoqda. Bu haqda Zamin.uz xabar berdi.
Xalqaro manbalarning xabar berishicha, Shenzhen shahrida joylashgan maxfiy laboratoriyada sun’iy intellekt va zamonaviy elektron qurilmalar uchun zarur bo‘lgan ilg‘or chiplarni ishlab chiqarishga qaratilgan tajriba uskunasi yaratilgan. Ushbu uskuna ekstremal ultrabinafsha litografiya texnologiyasiga asoslangan bo‘lib, bu soha hozirgacha G‘arb davlatlari tomonidan nazorat qilinib kelinayotgan edi.
Mazkur texnologiya hali sinov bosqichida bo‘lib, unda to‘liq ishlaydigan chiplar ishlab chiqarilmagan. Ammo qurilma zarur bo‘lgan ultrabinafsha nurni hosil qilishga muvaffaq bo‘lgan.
Xitoy hukumati bu texnologiya asosida ilk chiplarni 2028-yilgacha ishlab chiqarishni maqsad qilgan. Biroq mutaxassislar bu jarayon 2030-yilgacha cho‘zilishi mumkinligini ta’kidlashmoqda.
Loyiha Xitoyning strategik rivojlanish dasturi doirasida amalga oshirilmoqda. Unda davlat ilmiy markazlari va yirik texnologik kompaniyalar faol ishtirok etmoqda.
Asosiy maqsad — ilg‘or chiplarni ishlab chiqarishda chet el texnologiyalariga qaramlikni yo‘qotib, to‘liq mahalliy imkoniyatlar bilan ishlashga o‘tishdir. Mutaxassislar bu tashabbusni Xitoyning texnologik mustaqillikka erishish yo‘lidagi muhim burilish deb baholamoqda.
Ushbu jarayon kelgusida global yarimo‘tkazgichlar bozoriga sezilarli ta’sir ko‘rsatishi va texnologik raqobatda yangi muvozanatni shakllantirishi mumkin.
